相变材料二氧化钒薄膜制备的方案注：文中涉及到的部分图片可能来源于其它文献，这里仅做引用溅射法溅射法通常利用ar粒子轰击v或五氧化二钒靶材产生溅射效应，使得粒子从靶材表面射出，运动过程中与氧气反应，继而在衬底表面沉积形成氧化钒薄膜。溅射过程中，影响成膜质量的因素很多，主要有氧分压、溅射时间、溅射功率、基底温度、退火时间、退火温度、基底材料等。pld脉冲激...
what’scvd?化学气相沉积（chemicalvapordeposition），制备薄膜的一种技术.advantageshighgrowratescandepositmaterialswhicharehardtoevaporategoodreproducibilitycangrowepitaxialfil msdisadvantag...
书籍：《炬丰科技-半导体工艺》文章：薄膜沉积概述编号：jfkj-21-668作者：炬丰科技关键词:化学气相沉积；物理气相沉积；表面涂层；薄膜摘要材料的表面性质会影响材料使用时的效率和性能。修改和调整这些表面特性以满足更好性能的特定需求是可行的，并且已经广泛应用于生活的不同方面。这可以通过薄膜沉积涂覆表面来实现。这项研究回顾了用于表面改性和涂层的不同...
