薄膜材料的定义及应用,压电陶瓷薄膜材料介电性能检测 -ag真人官方入口

苗坤旺离型膜

从20世纪末开始集成光学得到了迅速的发展,它可以实现将多个光学元件集成在同一块芯片材料上,形成一个结构复杂、功能强大的微型/小型器件,以实现一种或多种光学功能,在传感、通信/信号传输、环境检测等领域都有广泛的应用。集成光学在现代光通信和光信息处理应用中起了不可替代的作用,而薄膜则是集成光学系统一个关键的组成部分。将具有不同光学性质的单晶材料通过一定方式结合在一起形成薄膜材料,可以实现单一晶体所无法实现的功能。 锯酸锂(linbo3,ln)晶体是集成光学应用最多的一种晶体材料,因为其自身具有多种优良的光学性能,如压电、铁电、光电、光弹、热释电、光折变和非线性等光学性质。ln晶体有光学“硅”材料之称,成为少数经久不衰、源源不断开辟应用新领域的光学功能材料。近十几年以来,出现了一种制作高折射率差单晶薄膜的方法。离子注入技术和晶体键合技术相结合,将单晶银酸锂薄膜键合到沉积有siox(也可以是别的材料)的绝缘体衬底,制备出单晶锯酸锂薄膜(lithiumniobate on insulator, lnoi)。用的lnoi材料是三明治结构:ln薄膜/sio2层/ln衬底。最上面是一层ln薄膜,厚度大约0.5 um,中间一层是非晶的sio2,厚度约2 um,最下面一层是ln衬底。ln薄膜和sioz层形成的高折射率差对光形成限制作用。光被限制在一个很小的空间内,在很低的入射能量下,lnoi制作的波导中光的能量密度就可以达到很高的量级。ln体材料中的某些光学性质,例如非线性光学效应和电光效应,在 lnoi中可以得到一定程度的加强。lnoi作为一种制作集成光学器件的理想平台,制作的光学器件的性能可能有大幅度的提高,迄今已经有不少在lnoi上制作的器件的报道。但是器件的性能在很大程度上取决于材料的性能,所我们所知,关于lnoi光学和结构属性的报道并不多。因此,对于lnoi的结构和光学属性应该进一步的探讨,这对于设计、制备、评价lnoi上的集成光学器件有帮助和推动作用。 供应产品目录: 铬掺杂碳基薄膜 流延聚丙烯蒸镀金属薄膜(mcp) 二氧化硅薄膜 氧化铝薄膜 以多孔碳为骨架的纳米铝热薄膜 氧化铟锡钽薄膜 钽基介质薄膜 铝合金表面耐蚀润滑一体化薄膜 非晶硅薄膜 多晶硅薄膜 含钽薄膜 抗氧化铀钽薄膜 掺钽铀薄膜 氮化铪薄膜 氧化铌(钽)薄膜 钽硅介质薄膜 钽铝合金薄膜 铌铝碳 nb4alc3薄膜 xrf聚酯薄膜 钒铝碳 v4alc3薄膜 钼钨硫mows2薄膜 二硫化钼和硫化钼钨合金薄膜 含钼或钨薄膜 类石墨烯二硫化钨薄膜 二硫化钼mos2薄膜 层状二硫化钼纳米薄膜 稀土掺杂mos2薄膜 mos2/c复合薄膜 au nps薄膜 mos2/a-c复合薄膜 磁控溅射mos2 sb2o3防冷焊薄膜 单层/少层/多层二硫化钼纳米复合薄膜 c/n共掺mos2复合薄膜 层状二硫化钼/石墨烯(mos2/graphene)薄膜 非平衡磁控溅射离子镀mos2-ti复合薄膜 自润滑薄膜二硫化钼(mos2)和硬质耐磨薄膜氮化钛(tin) 无机硫化物二硫化钼(mos2)固体润滑薄膜 高质量的二硫化钼mos2纳米多层薄膜 二硒化钼mose2薄膜 二维二硒化钼(mose2)薄膜 稀土掺杂mose2薄膜 铜铟镓硒薄膜 单层/少层/多层硒化钼(mose2)薄膜 铜锌锡硫硒薄膜 银掺杂硒化钼(mose2)薄膜 二碲化钼mote2薄膜 单晶二碲化钼(mote2)薄膜 单层/少层/多层二碲化钼(mote2)薄膜 二维二碲化钼(mote2)薄膜 半金属mote2薄膜 mote2及mote2/mos2异质结薄膜 二维硒化钼薄膜 二硫化钨(ws2)薄膜 大面积mos2/二硫化钨(ws2)薄膜 单层/少层/多层二硫化钨(ws2)复合薄膜 二硫化钨/钨掺杂类金刚石(ws2/w-dlc)复合薄膜 二硒化钨(wse2)薄膜 大尺寸二硒化钨(wse2)薄膜 二硒化钨(wse2)半导体薄膜 单层/少层/多层二硒化钨(wse2)薄膜 垂直基底生长硒化钨纳米片薄膜 过渡金属硫属化物薄膜电晶体 二碲化钨(wte2)薄膜 二碲化钨(wte2)和铋薄膜 掺杂vo2薄膜 二硫化锡sns2薄膜 锡化亚锡sns薄膜 硫化铋(bi2 s3)薄膜 no/sns复合薄膜 cds/cds和cds/dy/cds薄膜 可挠性p型氧化亚锡薄膜电晶体 含氧化亚锡颗粒的双轴取向聚酯薄膜 氧化亚锡多晶薄膜 二硫化锡/三硫化二锡/硫化亚锡异质结薄膜 锡硫化物薄膜 硫化亚锡(sns)薄膜 电沉积硫化亚锡(sns)薄膜 硫化亚锡(sns)异质结薄膜 简易硫化亚锡(sns)微米棒薄膜 聚苯乙烯磺酸(pedot:pss)/硫化亚锡(sns)纳米带柔性薄膜 硫化亚锡(sns)敏化纳晶tio2膜 六方氮化硼(hbn)薄膜 石墨烯-六方氮化硼(hbn)薄膜 zn原位掺杂的p型六方氮化硼(hbn)薄膜 催化剂辅助化学气相生长高结晶六方氮化硼(hbn)薄膜 高储能效率铁电聚合物基电介质薄膜 三硒化二铟in2se3薄膜 硒化铟(inse和in2se3)纳米薄膜 cu(in,ga)se_2和cu_2znsnse_4薄膜 黄铜矿系薄膜 cuinse2(cis)薄膜 二硒化钼(mos2)薄膜 大尺寸单层/多层/少层二硫化钼(mos2)薄膜 二维硒化钼(mos2)薄膜 二氧化钛纳米线/二硒化钼(mos2)复合薄膜 二硒化铌nbse2复合薄膜 二硫化钒vs2薄膜 氮化碳(cnx)薄膜 高氮含量氮化碳(c3n4)薄膜 射频磁控溅射沉积氮化碳(cnx)薄膜 氮化碳(cnx/tin)复合薄膜 磷掺杂的石墨相氮化碳(cnx)薄膜 硒化锗gese薄膜 二元化合物硒化亚锗(gese)薄膜 高质量纯相gese多晶薄膜 ge-in-se硫系薄膜 锗-铟-硒薄膜 新型硒化锗gese无机薄膜 硫化锗ges薄膜 硫化锗-硫化稼-硫化镉非晶薄膜 li3po4/ges2复合固体电解质薄膜 锗复合磷酸锂固体电解质薄膜 硫化锗玻璃薄膜 硒化镓gase薄膜 硫化镓gas薄膜 碘化铬cri3薄膜 交叉状碘化氧铋纳米片薄膜 p型碘化亚铜cui薄膜 ch3nh3pbi3多晶薄膜 玻璃纤维布负载碘氧化铋光催化薄膜 yyp2021.3.31

(一)pi 薄膜简介

pi 薄膜是目前世界上性能最好的薄膜类绝缘材料,具有优良的力学性能 、 电性能 、 化学稳定性以及很高的抗辐射性能、 耐高温和耐低温性能 (-269 ℃至 400 ℃)。

(二)pi 薄膜按照生产工艺区分:

1:浸渍法 投入少、但生产成本高、产品性能受局限 2:流延薄膜 生产成本低,薄膜均匀,产品性格较好 3:双轴拉伸薄膜 投入较大,但产品物理性能、电性能、热性能均优异

(三)pi 薄膜制品

(四)pi 薄膜应用

薄膜是聚酰亚胺最早的商品之一,主要用于h 级或c 级绝缘。由于聚酰亚胺薄膜具有较高的耐油、耐温和低介电损耗等优异的综合性能,有着“黄金薄膜”的美称。可用作电缆绝缘材料、隔热材料、防辐射保护材料、记录载波材料等,特别是在柔软性印刷线路板工业上的应用,使之在航天、军事、移动通讯、手提电脑、计算机外设、pda、数字相机、电器仪表等领域得到广泛的应用,成为电力、电器、微电子和精密机械行业不可替代的关键性材料。

pi薄膜广泛应用于微电子领域,以及oled 白光照明、薄膜太阳能电池、防电磁辐射透明薄膜、射频电路板、触摸屏等领域

(五)pi 薄膜市场情况

pi 薄膜被称之为“黄金薄膜”,市场价格达到每吨60-300万元人民币,其中双轴向拉伸电子膜市场价格均在每吨100万人民币以上;目前国内市场pi薄膜需求快速增长,严重依赖进口,需求潜力巨大,处于严重供不应求的状态;门槛极高,供给高度集中。由于聚酰亚胺合成难度极高、下游产品加工难度较大,因此全球聚酰亚胺供给集中于少数公司(美国杜邦,日本宇部兴产,日本钟渊,以及韩国sk kolon )。 原文链接:http://www.polytpe.com/t/101204

什么压电陶瓷

压电陶瓷是一种能够将机械能和电能互相转换的信息功能陶瓷材料 。压电陶瓷除具有压电性外,还具有介电性、弹性等,已被广泛应用于医学成像、声传感器、声换能器、超声马达等 。压电陶瓷利用其材料在机械应力作用下,引起内部正负电荷中心相对位移而发生极化,导致材料两端表面出现符号相反的束缚电荷即压电效应而制作,具有敏感的特性,压电陶瓷主要用于制造超声换能器、水声换能器、电声换能器、陶瓷滤波器、陶瓷变压器、陶瓷鉴频器、高压发生器、红外探测器、声表面波器件、电光器件和压电陀螺等。

什么是薄膜材料

厚度小于1微米的膜材料,称为薄膜材料

可以检测哪些介电数值

介电性能通常是指居里温度、强场介电性能检测、dc偏压特性、相对自由介电常数特性测试、阻抗奈奎斯特图nyquist?plot、电容时间特性、电容频率特性、等效电路、相对介电常数和介质损耗因数

性能检测

佰力博检测一家专门从事功能陶瓷检测的检测机构。业务主要包含mlcc、ltcc、压电陶瓷、热释电陶瓷、ptc陶瓷、敏感陶瓷、pvdf压电薄膜等材料与器件的电性能检测和可靠性验证,我们的使命就是为用户提供更快、更准、更权威的数据结果。

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